Nearfield Instruments Tandatangani Proyek Pengembangan Multitahun untuk Memajukan Metrologi Semikonduktor

 Belanda, Radarseluma.Disway.id -- Nearfield Instruments, pemimpin dalam solusi kontrol proses 3D non-destruktif dalam jalur manufaktur berbasis teknologi probe pemindai, hari ini mengumumkan proyek pengembangan strategis untuk mempercepat inovasi dalam metrologi semikonduktor.

 

BACA JUGA:Kredit Berbasis Kekayaan Intelektual Resmi Disetujui, UMKM dan Pelaku Kreatif Bisa Ajukan KUR Mulai 2026

BACA JUGA:Sertipikasi Tanah Ulayat Jadi Bentuk Perlindungan Hak Adat, Menteri ATR/BPN Tekankan Sinergi Hukum di Papua

Sebagai bagian dari kolaborasi multitahun, Nearfield Instruments akan menerapkan sistem andalannya, QUADRA, di fasilitas litbang canggih milik Imec di Leuven. Kedua organisasi ini akan bersama-sama mengembangkan solusi metrologi generasi berikutnya untuk mengatasi tantangan mendesak di seluruh rantai nilai manufaktur semikonduktor, termasuk:

 

Metrologi Litografi EUV Tinggi-NA

Pengembangan dan karakterisasi metrologi 3D resist EUV tinggi-NA dengan menggunakan mode pencitraan High-Aspect-Ratio (HAR) (FFTP) eksklusif milik Nearfield untuk meningkatkan produktivitas pemindai.

Pembuatan Profil 3D Perangkat Logika Canggih

Memungkinkan karakterisasi struktur dengan rasio aspek tinggi yang presisi, seperti Complementary Field-Effect Transistors (CFET), melalui mode pencitraan dinding samping eksklusif milik QUADRA.

Metrologi Integrasi Heterogen 3D

Meningkatkan kemampuan metrologi dan inspeksi untuk integrasi 3D dan ikatan hibrida (wafer-to-wafer, die-to-wafer). Aplikasinya mencakup kekasaran lempengan tembaga dan dielektrik, erosi, cekungan (dishing), pencitraan die penuh, dan edge roll-off yang dimanfaatkan oleh teknologi Ultra-Large Scanning Area (ULSA) milik Nearfield Instruments, yang menggabungkan throughput tinggi dengan resolusi tingkat nanometer.

 

BACA JUGA:Ini Sebabnya Fortuner Ini Bisa Terjun ke Sungai Air Gasan Seluma

Sumber: