Nearfield Instruments Tandatangani Proyek Pengembangan Multitahun untuk Memajukan Metrologi Semikonduktor

“Melalui kemitraan dengan Imec, kami mampu mendobrak batasan dari hal yang mungkin dilakukan dalam kontrol proses manufaktur semikonduktor,” ujar Dr. Hamed Sadeghian, CEO Nearfield Instruments.

“Bersama-sama, kami mengatasi tantangan besar dalam metrologi, mulai dari pembuatan profil 3D CFET hingga karakterisasi ikatan hibrida, dan memungkinkan lompatan berikutnya dalam litografi EUV Tinggi-NA melalui pencitraan resist 3D penuh. Inovasi-inovasi ini sangat penting bagi era chip AI, di mana presisi, kecepatan, dan skalabilitas dalam metrologi secara langsung menentukan performa, efisiensi energi, dan hasil. “QUADRA dirancang untuk memenuhi semua kebutuhan itu.”

 

Luc van den Hove, CEO IMEC, menambahkan: “Solusi metrologi canggih sangat penting untuk mengatasi tantangan kompleks yang dihadapi industri semikonduktor saat ini. Dengan memadukan riset mutakhir dan teknologi inovatif, kami membuka jalan bagi kemajuan transformatif yang akan mendukung masa depan manufaktur chip dan memungkinkan kelanjutan progres era digital. Kami senang melihat berbagai inisiatif di Eropa untuk mengembangkan solusi peralatan canggih yang memenuhi beberapa kebutuhan mendesak. Kami ingin memanfaatkan lini uji coba untuk mendemonstrasikan sebagian kemampuan ini.”

 

Kolaborasi ini menandai langkah maju yang signifikan dalam menjembatani inovasi metrologi terdepan dengan pengembangan proses semikonduktor canggih. Dengan memadukan teknologi milik Nearfield Instruments yang sudah teruji dengan program penelitian visioner Imec, kemitraan ini bertujuan menghadirkan solusi berdampak besar yang akan membentuk masa depan manufaktur chip.

 

BACA JUGA:Luncurkan QRIS di KCI dan LRT Jabodebek, Bank Mandiri Perkuat Peran Sebagai Mitra

BACA JUGA:Rumah Sakit NUH Buka Pusat Bedah Ortopedi dan Bedah Mikro Tangan & Rekonstruksi Terpadu

TENTANG NEARFIELD INSTRUMENTS

 

Nearfield Instruments yang berbasis di Rotterdam, Belanda, bergerak di bidang solusi metrologi dan inspeksi canggih untuk industri semikonduktor. Perusahaan ini mengembangkan dan mengomersialkan sistem mikroskopi probe pemindaian generasi berikutnya yang menghadirkan metrologi 3D sejati berskala nanometer.

Inti dari inovasi Nearfield adalah platform eksklusif mereka, QUADRA, yang memungkinkan mikroskopi gaya atom (AFM) nondestruktif dengan throughput tinggi dan kapabilitas pencitraan 3D penuh, termasuk pengukuran dinding-samping penuh. Hal ini memungkinkan para produsen semikonduktor mengukur secara presisi struktur kompleks seperti trench dengan rasio aspek tinggi, via, dan tumpukan berlapis yang semakin berperan penting pada node canggih dan pengemasan IC 3D. Berbagai solusi dari perusahaan ini dirancang untuk berintegrasi mulus ke dalam lingkungan manufaktur volume tinggi, dengan menawarkan otomatisasi yang andal, siklus pengukuran yang cepat, serta kompatibilitas dengan standar fabrikasi. Hal ini memungkinkan terciptanya inovasi generasi berikutnya dalam manufaktur semikonduktor yang sejalan dengan kebutuhan industri.

Sumber: